Miks on rakukultuuri tarbekaupade jaoks vaja TC pinnatöötlust?
On olemas erinevat tüüpi rakke, mida saab kultiveerimismeetodite järgi jagada kleepuvateks rakkudeks ja suspensioonrakkudeks. Suspendeeritud rakud on rakud, mis kasvavad kandja pinnast sõltumatult ja kasvavad suspensioonina kultiveerimissöötmes, näiteks lümfotsüüdid Adherentsed rakud. on adherentsed rakud, mis tähendab, et rakkude kasvul peab olema kleepuv tugipind.Nad saavad sellel pinnal kasvada ja paljuneda ainult nende endi sekreteeritud või söötmes sisalduvatele adhesioonifaktoritele tuginedes.Enamik loomarakke kuulub kleepuvatele rakkudele.
Varem oli suurem osa turul olnud rakukultuuri kulumaterjalidest valmistatud klaasist, mis oli hüdrofiilne, mistõttu pind ei vajanud eritöötlust. Kuid tegelikus kasutusprotsessis esineb mõningaid puudujääke, nagu näiteks ebapuhtus ja proovi kergesti saastumine. teaduse ja tehnoloogia kiire areng, mitmesugused polümeermaterjalid (näiteks polüstüreen PS) on järk-järgult asendanud klaasmaterjale ja muutunud rakukultuuri kulumaterjalide põhilisteks töötlemismaterjalideks.
Polüstüreen on läbipaistv amorfne juhuslik polümeer.Selle toodetel on äärmiselt kõrge läbipaistvus, mille läbilaskvus on üle 90%, mis võimaldab jälgida rakukultuuri olekut mikroskoobi all.Lisaks on selle eeliseks lihtne värvimine, hea töötlemise voolavus, hea jäikus ja hea keemiline korrosioonikindlus. Siiski on polüstüreeni pind hüdrofoobne.Tagamaks, et kleepuvad rakud saaksid kulumaterjali pinnale hästi kinnituda, tuleb rakukultuuri tarvikute pind läbida spetsiaalse modifitseerimisega.Hüdrofiilsed tegurid viiakse pinnale, et kohaneda kleepuvate rakkude kasvu ja paljunemisega.Seda töötlust nimetatakse TC pinnatöötluseks. TC-töötlust saab kasutada rakukultuuri tasside, rakukultuuri plaatide, rakuronimisplaatide, rakukultuuri pudelite jne jaoks. Üldiselt kasutatakse rakukultuuri nõude TC pinnatöötluseks plasma pinnatöötlusseadmeid.
Rakukultuuri tassi omadused pärast TC pinnatöötlust
1. Toote pinna eelpuhastus: O2 plasma võib absorbeerida toote pinnale kinnitatud pisikesi osakesi ja muid saasteaineid ning tõmmata segugaasi vaakumkambrist läbi vaakumpumba, et saavutada eelpuhastusefekt.
2. Vähendage toote pindpinevust nii, et toote veekontakti nurk väheneks oluliselt, ja sobitage sobiva ionisatsioonienergia ja kontsentratsiooniga, nii et toote pinna WCA veekontaktinurk <10 °.3 O2 plasma reageerib keemiliselt toote pinnal ja toote pinnale saab lisada palju funktsionaalseid rühmi, sealhulgas hüdroksüül- (-OH), karboksüül- (-COOH), karbonüül- (-CO-), hüdroperoksü- (-OOH), jne. Need aktiivsed funktsionaalrühmad võivad parandada kultiveerimise kiirust ja aktiivsust rakukultuuri ajal.
Postitusaeg: 13. jaanuar 2023